廢氣處理設備工藝原理簡介：

  1、活性炭吸附催化燃燒設備：活性炭吸附脫附+催化燃燒技術采用高吸-脫附性能、風阻較小的活性炭材料---蜂窩狀活性炭作為吸附劑吸附低濃度有機廢氣，在一定條件下脫附，達到富集濃縮之目的，脫附下的高濃度有機廢氣在以蜂窩狀陶瓷材料為載體的貴金屬催化劑作用下，于250~550℃下氧化為CO2和H2O等無害物質，成功的解決了大風量、低濃度有機廢氣治理的難題，是一種低能耗、高凈化效率的有機廢氣凈化技術。裝置采用自主編程的PLC系統，實現全自動運行，系統凈化率較高。技術特點：PLC全自動化控制，配套可使用觸摸屏，使用簡便，節能省力；無火焰氧化，可布置在防爆生產場合；蜂窩陶瓷載體貴金屬催化劑，催化活性高，性能穩定、阻力?。桓咝阅芑钚蕴课絼?，比表面積大，吸-脫附性能好，過風阻力?。桓鶕蛻艏皬U氣情況，吸附床內可配套消防系統，保證設施好；凈化效率高，保證達標排放；凈化設施阻力小，可有效減少風機功率及噪音；多重預警系統：非穩態控制、溫度預警、停機警報及故障應急處置措施等。嚴格控制進入系統中有機廢氣濃度低于其爆炸下限值的1/4。

 2、活性炭吸附設備：又名活性炭吸附塔,活性炭吸附裝置,活性炭吸附設備由殼體、初效過濾器、穿孔網、檢修門、支架、活性炭進料口及出料口組成?；钚蕴课皆O備為分層結構，每層為一個獨立的活性炭箱，可開門裝填活性炭?；钚蕴款愋蜑?-5mm柱狀活性炭。工作原理：氣體由風機提供動力，正壓或負壓進入活性炭吸附設備，由于活性炭固體表面上存在著未平衡和未飽和的分子引力或化學健力，因此當此固體表面與氣體接觸時，就能吸引氣體分子，使其濃聚并保持在固體表面，質從而被吸附，廢氣經活性炭吸附設備后，進入設備排塵系統，凈化氣體空達標。

活性炭吸附設備點：

  1.吸附效率、能力強；

  2.活性炭吸附設備構造緊湊，占地面積小，維護簡單；

  3.voc活性炭吸附設備全密封結構，室內、室外皆可使用；

  4.能夠處理多種混合廢氣。

  3、噴淋洗滌設備廢氣凈化塔為圓柱塔體，塔內裝有旋流塔板。工作時，廢氣由塔底向上，由于切向進塔，在塔板葉片的導向作用而使煙氣旋轉上升，使在塔板上將逐板下流的液體噴成霧滴，使氣液間有很大的接觸面積;液滴被氣流帶動，產生的離心力強化氣夜間的接觸，甩到塔壁上沿壁下流到填料層，經過溢流裝置到下一層塔板上，再次被氣流霧化而進氣液接觸。如上所述，液體在與氣體接觸后又能有效的分離---避免霧沫夾帶，又因塔板上液層薄，開孔率大而使壓降較低，達同樣的壓降約低一半，由于塔內提供了良好的氣液接觸條件，起到了良好的降溫降塵作用；氣體中的塵粒在塔板上被水霧粘附而除去，此外，塵粒及霧滴受填料層吸收，亦使之被粘附而除去，從而使氣流帶出塔的塵粒和霧滴很少，氣體由于經過了2層填料層及除霧層的預處理，同時也達到了良好的降溫。廢氣洗滌塔產品的外觀有：廢氣入口、出口、視窗，維修入孔及洗滌塔內部用以支撐及固定用之結構，以確保設備本身之耐蝕性增加其使用時間。

6、光催化氧化設備：

  1、光催化氧化是在外界可見光的作用下發生催化作用,光催化氧化反應是以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O。采用的半導體是目前反應效率的TiO2光催化劑,經過特殊處理后使用,達到理想成果。

  2、在光催化氧化反應中，通過光照射在TiO2光催化劑上產生電子空穴對，與表面吸附的水份（H2O）和氧氣（O2）反應生成氧化性很活波的羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-）。能夠把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物及其它VOC類有機物、無機物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它無害物質,同時具有除臭、功效，由于在光催化氧化反應過程中無添加劑，所以不會產生二次污染。7、低溫等離子設備低溫等離子體技術在氣態污染物治理方面優勢顯著。其基本原理是在電場的加速作用下，產生高能電子，當電子平均能量超過目標治理物分子化學鍵能時，分子鍵斷裂，達到除氣態污染物的目的。原理：在外加電場的作用下，介質放電產生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發，然后便引發了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉變為簡單小分子物質，或使有毒有害物質轉變成無害或低毒低害的物質，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產生的電子平均能量在10ev，適當控制反應條件可以實現一般情況下難以實現或速度很慢的化學反應變得快速。作為環境污染處理領域中的一項具有極強優勢的高新技術，等離子體受到了國內外化工廢氣治理方面的高度評價。